LFMX 3.1-.20SNM2:T8330 - 6754339Sub micron substrat avec une teneur en cobalt relativement leve Revtement pvd nano couches avec transitions dgrades Tension de revtement interne infrieure avec une duret plus leve Moindre usure de l'entaille sur la coupe principale edge Vitesses de coupe moyennes Bonne fiabilit oprationnelle Conditions d'usinage altres
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